抛光混床水处理设备 、纯化水处理设备、洛阳纯水设备

抛光混床是设置于EDI系统之后，对水进一步纯化的水处理设备，一般抛光混床可分成一抛光混床和二抛光混床，一抛光混床将EDI的产水再净化使水质电阻达     16 MΩ以上，二抛光混床是一抛光混床产水进行再抛光， 使水质电阻率达18MΩ以上。

抛光混床主要技术参数

设计压力 : 0.6Mpa

运行流速 : 一：30m/h，二：36m/h

设备出力 : 一：6m3/h，二：4.5m3/h

产水水质 : 一：电导度≤0.053μS/cm，电阻≥16MΩ     ；二：电导度≤0.053μS/cm，电阻≥18MΩ

产水水质高且水质稳定， 短时间运行条件变化（如进水水质或组分，运行流量等）对混床水质影响不大。

间断运行对产水水质影响小，恢复到停运前的活水水质所需时间短。

交换终点明显。